Az amerikai hegemóniának véget vethet a kínai mérnökök által kifejlesztett új technológia. Kína félvezetőipara az elmúlt évek egyik legjelentősebb technológiai mérföldkövéhez érkezhetett. A Reuters értesülései szerint az ország kifejlesztette első saját EUV (extrém ultraibolya) litográfiai prototípusát, amely – bár még nem gyártott működő chipet – elméletben már képes UV-fény előállítására a wafer-maratási folyamatokhoz. Az EUV-technológia Óriási áttörés a kínai chipgyártásban