Értesítések engedélyezése
Engedélyezi az értesítéseket a böngészőjében?

Házon belül kifejlesztett modern félvezetőipari gyártóeszközt tesztel a kínai SMIC – Küszöbön az áttörés?

Az első kínai DUV alapú immerziós litográfiai eszköz a 28 nm-es csíkszélesség alkalmazásához készült, de elméletben akár a 7 nm-es vagy az 5 nm-es csíkszélességhez is bevethető lesz, ha továbbfejlesztik.

Femcafe.hu

Borsonline

atv.hu

naphire.hu

Médiapiac

vasarnap.hu

10perc.hu

Gondola